四フッ化ゲルマニウムは、化学式 GeF4 で表され、ゲルマニウムとフッ素の化合物です。半導体製造、光学機器などのさまざまな産業用途で一般的に使用されています。
三フッ化塩素 (ClF3) は、反応性が高く腐食性の高い化合物であり、さまざまな産業用途で使用されていますが、取り扱いが難しく、その使用はある程度制限されています。