0102030405
Deuterowany diboran o wysokiej czystości (B2D6)
Po co się wahać? Zapytaj nas teraz!
Skontaktuj się z namiDane techniczne
| Czystość chemiczna% | ≥99,8 |
| Czystość izotopowa (100D/(D+H)) | ≥98 |
Informacje techniczne
| Stan cylindra @ 21,1°C | Gaz |
| Granice palności w powietrzu | 0,8% -98% |
| Temperatura samozapłonu (°C) | 40-50 |
| Masa cząsteczkowa (g/mol) | 45,79 |
| Temperatura krytyczna (°C) | |
| Ciśnienie krytyczne (psig) |
opis produktu
Stosowany głównie jako źródło wspomaganej plazmą CVD powłok pobierającychosadzały się na wewnętrznych powierzchniach reaktorów Tokomak. Stosowany również jako substytut diboranu podczas osadzania
technologie, w przypadku których większa stabilność chemiczna deuterowanego diboranu stanowi znaczącą zaletę.
opis2